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에폭시 주입 장치 |
Epoxy Mixing System |
진공함침을 위해 에폭시와 경화제를 일정 비율로 섞어주고, 주입이 원활히 되도록 온도를 40도 정도로 가열시켜서 펌프를 이용해 진공함침 다이에 공급하는 제어 시스템을 포함한 장치를 말함. |
42 |
에프피디피 |
Front Panel Data Port |
A/D 카드에 다량의 아날로그 신호를 입력하기 위한 어댑터 일종으로, 초기 진단장치 DAQ시스템의 일부 Digitizer에서 사용되고 있음 |
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에프피지에이 |
Field Programmable Gate Array |
프로그램이 가능한 로직 칩의 한 형태 |
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에픽스 |
Experimental Physics and Industrial Control System |
KSTAR 제어계통에 사용된 Network 기반의 분산제어시스템의 이름, vxWorks, Linux등 다양한 OS와 VME, PXI, cPCI등 다양한 플랫폼에 이식 가능한 제어시스템의 미들웨어 |
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엑스선 |
X-rays |
짧은 파장의 전자기파, 두꺼운 물체도 뚫을 수 있다. 의학적 엑스선은 한줄의 빠른 전자를 금속면에서 갑자기 서게 하면서 생성할 수 있다; 태양이나 별에서부터 방출되는 엑스선도 빠른 전자에서 나오는 것이라고 생각해왔다. |
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엔 벨류 |
n-Value |
초전도체가 상전도로 전이할 때의 I-V 그래프의 기울기로써 초전도상태에서의 초전도체의 잔류저항 및 초전도체의 재료적 특성을 대표하는 값 |
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엠디에스플러스 |
Model Driven System Plus |
핵융합 분야에서 많이 사용되고 있는 database, analysis 및 DAQ 기능을 수행하는 프로그램으로서 KSTAR에서 발생하는 진단데이터들을 저장, 관리하는 실험 DB로 사용되고 있음 |
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엠이디엠 |
Motif Editor and Display Manager |
운전자 화면을 개발하는데 사용하는 Motif graphical user interface 로서 EPICS에서 제공되는 tool |
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역류전자 |
Backstream Electron |
이온빔인 가속되는 과정에서 가속부내의 기체 및 가속전극과 충돌하여 생성되는 전자들로서, 이온빔과 반대방향으로 가속됨. |
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역자기장 쉬어 |
Reverse (magnetic) shear |
토카막에서는 전류밀도가 일반적으로 중심주에서 높아 주변부로 갈수록 안전상수의 값이 증가한다. 비유도성 전류구동장치나 자발전류를 통해 중심부가 아닌 곳에서 전류밀도가 최대가 되도록 증가시킬 수 있는데 이런 역자기장 쉬어의 경우 안전상수의 최저점이 중심부가 아닌 점이 된다. 이런 형태의 운전은 TFTR, JT-60U, JET 등에서 매우 향상된 플라즈마 성능을 보여주어 고성능 토카막 운전의 매력있는 운전 방법 중 하나이다. |