| 901 |
피엑스 아이 |
PCI Extensions for Instrumentation |
PCI 버스를 이용한 측정 및 자동화 시스템용 platform |
| 902 |
피치각 |
Pitch Angle |
플라즈마 물리에서 이 용어는 자기장에서 움직이는 전하를 가진 입자의 운동을 기술하는 말이다. 전형적인 정의의 하나는 피치각이 자기장에 평행방향의 속도에 대한 수직방향 속도의 비의 ARCTAN값이다. 따라서 입자가 자기장에 평행하게 움직이면 피치각은 0 이며 평행방향 성분이 없으면 90도가 된다. |
| 903 |
핀치장치 |
Pinch Device or Pinch Machine |
핀치현상을 이용한 플라즈마 가둠장치. |
| 904 |
핀치현상 |
Pinch Effect |
플라즈마가 압축되고 영역이 제한되느 현상의 총칭. 여러 종류의 핀치현상이 있는데 Z핀치는 큰 전류를 가지고 흐르는 플라즈마와 그 전류가 만드는 자기장과의 상호작용으로 일어나는 현상이고 쎄타핀치는 외부 솔레노이드 자석의 저류를 크게해서 축방향의 자기장을 크게 하는 방법이다. 웨어핀치는 신고전현상으로 토카막에서 일어나며 다른 형태로는 X핀치, 스크류 핀치, 역자장 핀치 등이 있다. |
| 905 |
필라멘트전원 |
Filament Power Supply |
이온원에서 플라즈마를 발생시키기 위하여 필라멘트 가열에 사용하는 전원. |
| 906 |
필링 모드 |
Peeling mode |
플라즈마주변부에서 전류분포가 영이 아니면 주변부에 MHD불안정성이 생기며 이는 ELM과 관련이 있다. |
| 907 |
필수확인점 |
Hold Point |
공정중 검사자에 의한 검사 또는 입회를 필요로 하는 중요단계로서 검사에 입회하지 아니하고는 다음 공정으로 진행하지 못하도록 결정한 점을 말한다. 필수확인점은 작업 수행자에 의하여 확인, 승인될 수 없고 품질검사자의 입회하에 확인, 승인되어야 함 |
| 908 |
하이브리드 전류구동 시스템 |
Lower-Hybrid Current Drive: LHCD |
마이크로웨이브를 이용한 토카막 플라즈마의 전자를 가열하여 플라즈마 전류를 발생시키며, 전류의 형태나 프로파일을 제어할 수 있는 장치임. 전자의 온도에 의해 정의되는 속도와 입사되는 마이크로웨이브의 위상 속도가 일치할 때 파도 타기 현상과 같이 전자가 가속되는 원리를 이용함. |
| 909 |
하이퍼베이퍼트론 |
Hypervapotron |
열 냉각능력을 극대화하기 위해 제작된 대용량 열부하 부품으로 판형으로 되어 있으며 냉각수가 흐르는 내부가 빨래판 구조로 되어 있음. |
| 910 |
한계전력값 |
Power threshold |
L-H 전이가 일어나기 위해 최소한 투입해야 하는 전력값. |
