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연구성과

연구성과

2020년플라즈마기술연구소 초정밀 연마용 플라즈마 발생원 개발

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연구성과 초정밀 연마용 플라즈마 발생원 개발
연구개요 인공위성 광학 부품 소재인 실리콘카바이드(SiC)를 기계가공에 의한 하부층 손상이 발생하지 않게 플라즈마를 이용하여 원자층 수준까지 초정밀 연마할 수 있는 플라즈마 발생원 기술 개발
연구내용 대기압 플라즈마를 이용한 SiC 식각 원리를 규명하고, 최적화된 대기압 플라즈마 발생원을 고안하여, SiC 소재에 기계적인 손상 없이 보정가공을 할 수 있게 함.

진공플라즈마를 이용하여 SiC를 고진공 환경에서 원자층 수준으로 식각을 할 수 있는 기술을 처음으로 개발하고, 이를 이용하여 초정밀 보정 가공을 할 수 있게 하였음.
주요성과 과학적 가치
SiC에 대한 원자층 연마 연구를 처음으로 수행하여 논문(Thin Solid Film, 707)으로 발표.

대기압 플라즈마를 활용하여 SiC를 손상없이 안정적으로 식각 할 수게 함. (Plasma Sci. & Tch. 21)
기술적 가치
우주광학 부품으로 널리 사용되는 SiC 초정밀 연마용 플라즈마 발생원 원천기술을 개발하여, 다가올 우주산업시대에 꼭 필요한 SiC 초정밀 연마기 개발을 가능케 함.
사회적 가치
선진국에서 독점하고 있는 초정밀 연마기술 분야에서 SiC에 대한 플라즈마 연마를 국내에서 최초로 개발하여, 향후 우주산업 시대의 미래 먹거리 기반을 마련함.
기대효과 인공위성용 SiC 거울 보정 가공, X-ray 거울 초정밀 연마 적용으로 국내 초정밀 가공 산업 육성 기여
관련이미지 상용화 장치 (Pilot System) 초정밀 연마 공정 최적화 (연마후 Ra < 0.2nm) 초정밀 연마를 위한 고진공 플라즈마 이온/라디칼 빔 발생 장치 개발 관련 이미지
상용화 장치 (Pilot System) 초정밀 연마 공정 최적화 (연마후 Ra < 0.2nm)
초정밀 연마를 위한 고진공 플라즈마 이온/라디칼 빔 발생 장치 개발
초정밀 가공용 플라즈마 소스, OLED 산업 고진공 정전기 제거 활용 요청(S사)으로 기술이전 진행 (20년 8월 3일 계약, 선급기술료 1.74억원, 경상기술료 매출 2%) 관련 이미지
초정밀 가공용 플라즈마 소스, OLED 산업 고진공 정전기 제거 활용 요청(S사)으로 기술이전 진행
(20년 8월 3일 계약, 선급기술료 1.74억원, 경상기술료 매출 2%)

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